| 대표자 | 양재영 | 계열명 | |
|---|---|---|---|
| 설립일 | 1999/10/07 | 상장일 | 2016/11/30 |
| 결산월 | 12월 결산 | 액면가 | 100원 |
| 보통주 | 43,693천주 | 우선주 | 0 |
| 유동주식 | 25,291천주 | 유동비율 | 57.88% |
| 대표번호 | 031-612-7600 | IR담당 | 031-612-7615 |
|---|
| 종가/전일대비 | 5,200/+120원(+2.31%) |
|---|---|
| 52주 최고/최저 | 5,990/4,000원 |
| 수익률(1M/3M/6M/1Y) | +7.00/ +15.68/ +14.04/ -11.86% |
| 시가총액(보통+우선+상장예정) | 2,272억원 |
| 시가총액(보통주) | 2,272억원 |
| 거래량 | 92,678주 |
| 거래대금 | 5억원 |
| 외국인 보유비중 | 4.25% |
| 베타(1년) | 1.01891 |
| 종가(NXT) | - |
| 거래량/거래대금(NXT) | - |
| 주주명 | 보통주(주) | 지분율(%) |
|---|---|---|
| 최대규(외 5인) | 15,084,033 | 34.52 |
| 자사주 | 3,226,841 | 7.39 |
동사는 1993년 설립 후 1999년 뉴파워프라즈마로 전환하였으며, 2002년 세계 두 번째로 반도체·FPD의 CVD 공정용 Remote Plasma Generator를 개발함. 박막공정 및 식각공정 장비에 사용되는 Remote Plasma Generator와 Plasma 발생 전원 공급 모듈을 제조하는 국내 최고의 업체임. 제품과 서비스의 고객만족 실현을 경영이념으로 추구하며, 글로벌 No.1 기업으로 성장하기 위해 노력 중임.
2025년 1분기 전년동기 대비 연결기준 매출액은 2.5% 증가, 영업이익은 34.2% 감소, 당기순이익은 29.6% 증가. 반도체 패턴 축소로 인해 건식각 공정 난이도가 증가하면서 장비 제작사들이 멀티 챔버 구성을 확대로 RF Generator 및 Matcher 공급이 늘고 있음. CVD 및 에치 공정의 지속성이 보장되며, 공정 난이도 증가로 챔버 클린 기술과 RPG 기술 필요성이 증가할 전망임.
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